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激光烧蚀ICPAES中的选择性蒸发

发布时间:2019-02-22 04:00:56 编辑:笔名

激光烧蚀ICP-AES中的选择性蒸发

激光束参数(脉宽,波长和功率密度)控制了分馏烧蚀,和大块试样比,因此影响了蒸气的组成。对于烧蚀的黄铜,作为激光功率密度的函数所测得的Zn/ Cu比表明存在着不同的影响PS和ns激光烧蚀的机理。用30ns脉冲宽度的激光器,热蒸发看来是主要过程,对于〈0.3Gw/ cm↑2的功率密度,热蒸发模式和实验数据吻合良好,在较高的功率密度,Zn/ Cu比达到化学计量比,但烧蚀的质量中总是Zn多,用35PS脉冲宽度的Nd∶YAG激光器,出现了非热机理控制激光烧蚀的过程(增加了蒸气中的Cu)。当用3nsNd∶YAG激光时,热和非热过程并存。对3ns和30psNd∶YAG激光器,在较高的功率密度能达到化学计量的烧蚀(化学分析)。用35ps激光器,对所有三个波长,热过程看来可以忽略。UVPS激光器看来更适合于化学分析应用,它提供了更强的发射强度和宽的积分通量,可以达到准确的化学计量分析。然而从实用观点看,PS激光器不及nsYAG激光器。采用进稳定性和在微微秒时的可靠性技术,这种激光器应用有更好的分析性能。

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